(1) Mélanges de gaz pour lasers : Les mélanges de gaz courants utilisés dans les lasers comprennent les mélanges hélium-néon, les mélanges dioxyde de carbone, les mélanges krypton-fluorure, les mélanges à faisceau scellé et les mélanges pour lasers excimères.

(2) Gaz mixtes pour instruments spéciaux : Les gaz mixtes couramment utilisés dans les instruments spéciaux comprennent le gaz PR (gaz P-10), le gaz de trempe Q, le gaz Geiger, le gaz équivalent tissulaire, les gaz pour compteurs de rayonnement nucléaire, les gaz pour compteurs proportionnels, les gaz mixtes à capture d’électrons, les gaz de combustion pour FID, les gaz mixtes pour chambres à étincelles, les gaz mixtes pour spectroscopie et les gaz porteurs pour chromatographes.

(3) Gaz de protection pour le soudage : Les gaz de protection utilisés dans l’industrie peuvent généralement être classés en trois catégories : les mélanges binaires, les mélanges ternaires et les mélanges quaternaires. Parmi les mélanges binaires courants figurent Ar–He, Ar–N2, Ar–H2, Ar–O2, Ar–CO2, N2–H2 et CO2–O2 ; parmi les mélanges ternaires courants figurent Ar–He–N2, Ar–He–N2, Ar–He–O2 et Ar–CO2–O2 ; les mélanges quaternaires sont moins fréquemment utilisés et sont généralement formulés à partir d’Ar, d’He, d’H2, d’O2, de N2, de CO2 et d’autres composants.

(4) Gaz mixtes pour sources de lumière électriques : Ils sont principalement utilisés comme gaz de remplissage dans les lampes à incandescence et dans les lampes à source de lumière spéciale (telles que les lampes infrarouges, les projecteurs à haute intensité, les lampes fluorescentes, les lampes de signalisation lumineuse, les lampes solaires, les lampes à ozone, les lampes photochimiques, les lampes de stérilisation, les lampes à ultraviolets, les lampes à effet de veille, les lampes à arc au zirconium, les lampes d’éclairage au gaz halogène, etc.), ainsi que dans les tubes à affichage numérique. Les types courants sont classés, en fonction de leurs caractéristiques, en mélanges de gaz rares, en mélanges de deutérium et en mélanges d’argon destinés aux lampes. Afin de prolonger la durée de vie des appareils d’éclairage, la pureté des gaz purs individuels utilisés pour la préparation de ces gaz mixtes doit généralement être supérieure à 99,99 %, et la teneur en impuretés oxydantes doit être strictement contrôlée.

(5) Mélanges de détection des fuites (alarme) : Il s’agit de mélanges spéciaux utilisés pour la détection des fuites et disponibles dans une grande variété de types et de spécifications. Parmi les exemples courants figurent l’hélium, les halocarbures, l’hexafluorure de soufre et le krypton-85.

(6) Gaz d’étalonnage standard : Applications du gaz d’étalonnage standard :

1. Applications dans la recherche sur la normalisation des gaz ;

2. Applications dans la supervision de la qualité des produits gazeux et dans le contrôle de la qualité ;

3. Étalonnage et mise à l’échelle des instruments et des compteurs ;

4. La surveillance de l’environnement atmosphérique est indissociable des gaz d’étalonnage standard ;

5. Applications dans le domaine de la santé et des analyses de laboratoire clinique ;

6. Dans l’évaluation des méthodes d’analyse.

(7) Respiration au mélange gazeux : un mélange d’oxygène-hélium (ou d’oxygène-néon) composé de 1 % à 20 % d’O₂ associé à de l’hélium ou du néon, principalement utilisé comme gaz respiratoire artificiel lors des plongées en eaux profondes et des vols spatiaux afin d’assurer aux plongeurs et aux astronautes un air respirable. En outre, ce type de mélange gazeux peut être employé dans le traitement de patients atteints de troubles respiratoires tels que l’asthme, les affections laryngées, le pneumothorax et les maladies pulmonaires, et peut également être utilisé en thérapie hyperbare chez des patients généraux.

(8) Gaz mélangés pour l’industrie de l’électronique : Les gaz mélangés destinés à l’industrie de l’électronique désignent une catégorie de gaz mélangés de qualité électronique spécialisés, utilisés dans des procédés tels que la croissance épitaxiale en phase vapeur, le dépôt chimique en phase vapeur, le dopage, la gravure et l’implantation d’ions lors de la fabrication de circuits intégrés à grande échelle (LSI), de circuits intégrés à très grande échelle (VLSI) et de dispositifs à semi-conducteurs. Ces gaz comprennent notamment des mélanges pour l’épitaxie (croissance), des mélanges pour le dépôt chimique en phase vapeur, des mélanges pour le dopage, des mélanges pour la gravure, ainsi que d’autres mélanges de qualité électronique.

Source : Mon réseau de gaz